摘要
【東京電子推新型半導(dǎo)體清洗機 可防芯片結(jié)構(gòu)遭破壞】日媒稱，日本大型半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商東京電子宣布，將于2021年1月發(fā)售清洗機“CELLESTA SCD”，該產(chǎn)品帶干燥功能，可提高最尖端半導(dǎo)體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序，防止半導(dǎo)體上的微細結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機將用于“微細化”和“多層化”的最尖端半導(dǎo)體制造，“微細化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路。（新華社）

　　

　　日媒稱，日本大型半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商東京電子宣布，將于2021年1月發(fā)售清洗機“CELLESTA SCD”，該產(chǎn)品帶干燥功能，可提高最尖端半導(dǎo)體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序，防止半導(dǎo)體上的微細結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機將用于“微細化”和“多層化”的最尖端半導(dǎo)體制造，“微細化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路。

　　據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》網(wǎng)站12月18日報道，新產(chǎn)品在東京電子的枚葉式清洗機CELLESTA系列中配備了超臨界干燥專用反應(yīng)室，將用于制造結(jié)構(gòu)不斷微細化、復(fù)雜化的邏輯半導(dǎo)體及個人電腦等使用的半導(dǎo)體存儲器DRAM。

　　報道稱，通過使用超臨界流體，可以降低干燥時微細圖案結(jié)構(gòu)被液體表面張力破壞的風險。新產(chǎn)品在干燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。

（文章來源：新華社）